Přehled produktu
Toto zařízení pro odpařování tenkých vrstev elektronovým paprskem je navrženo pro vysoce{0}}přesné fyzikální napařování (PVD). Systém využívá soustředěný vysokoenergetický elektronový paprsek k bombardování zdrojových materiálů a dosahuje vysokých rychlostí odpařování pro kovy, oxidy a dielektrické materiály s vysokým bodem -tavení-.
Systém je postaven na modulární vakuové architektuře a obsahuje více-kapesní elektronová děla, přizpůsobitelné držáky substrátu a pokročilé- monitorování in situ. Slouží výzkumným a vývojovým laboratořím a vysoce-výrobním linkám vyžadujícím přísnou kontrolu nad stechiometrií filmu, adhezí a optickým výkonem.
-
![Zařízení pro odpařování vysokovakuového elektronového paprsku]()
Zařízení pro odpařování vysokovakuového elektronového pap...Systém EBE-Series High Vacuum Electron Beam Evaporation System nanáší vysoce-čisté tenké vrstvy pro optické, polovodičové a metalurgické aplikace. Nasměrováním magneticky zaostřeného elektronového...Zobrazit více -
![Systém nanášení tenkých vrstev elektronovým paprskem]()
Systém nanášení tenkých vrstev elektronovým paprskemSystém nanášení tenkých vrstev elektronovým paprskem poskytuje směrové, vysoce{0}}čisté PVD zpracování pro pokročilý výzkum a průmyslovou výrobu. Využitím soustředěného, magneticky řízeného...Zobrazit více -
![Zařízení pro vakuové odpařování elektronovým paprskem]()
Zařízení pro vakuové odpařování elektronovým paprskemTento systém vakuového odpařování s elektronovým paprskem provádí fyzikální napařování (PVD) kovů, oxidů a dielektrik s vysokým bodem tání--. Nasměrováním fokusovaného elektronového paprsku do...Zobrazit více -
![Systém tenkých vrstev odpařování elektronového paprsku]()
Systém tenkých vrstev odpařování elektronového paprskuSystém EBE-Series Electron Beam Evaporation System je navržen pro fyzikální napařování (PVD) kovů, dielektrik a optických materiálů s vysokým -bodem tání-. Využitím magneticky vychylovaného,...Zobrazit více -
![Zařízení pro odpařování tenkého filmu elektronovým paprskem]()
Zařízení pro odpařování tenkého filmu elektronovým paprskemŘada EBE-V600 je průmyslová-platforma pro fyzikální depozici z plynné fáze (PVD) navržená pro přesné tenké-potahování optických součástek, polovodičových zařízení a pokročilých materiálů....Zobrazit více
Technické specifikace
|
Parametr |
Rozsah specifikace |
Poznámky / Standardní konfigurace |
|
Konečný základní tlak |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Dosahováno pomocí kryogenních nebo turbo{0}}molekulárních čerpacích skupin |
|
Rozměry komory |
Přizpůsobené (vnitřní průměr 500 mm až 1200 mm) |
Nerezová ocel 304L / 316L, elektro-leštěná |
|
E-Jmenovitý výkon zbraně |
6 kW až 15 kW (multi-kapesní generátory) |
Programovatelné vychylování paprsku a indexování více-kelímků |
|
Depoziční rychlost |
0,1 nm/s až 10 nm/s |
Ovládání-uzavřené{1}}smyčky v reálném čase prostřednictvím monitoru s křemenným krystalem |
|
Rovnoměrnost tloušťky filmu |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Planetový nebo kupolový držák substrátu s proměnnou rychlostí otáčení |
|
Teplota substrátu |
Okolní do 800 stupňů |
Integrované sálavé vytápění s tepelnou zpětnou vazbou PID |
Klíčové vlastnosti vybavení
Vysoce{0}}stabilní elektronová pistole:
Vyznačuje se magnetickým vychylováním a více{0}}bodovým zaostřováním, které zabraňuje místnímu přehřívání zdrojových materiálů a eliminuje plivání během reaktivního odpařování.
Modulární konstrukce kelímku:
Vybaveno 4 až 6 -kapsovými indexovatelnými topeništi, které umožňují vícevrstvé ukládání bez porušení vakua.
Pokročilé vakuové blokování:
PLC-řízené pneumatické ventily, automatizované hrubování/vysoké-podtlakové řazení a blokování chrání před selháním chladicí vody a anomáliemi napájení.
Nízká-kontaminační komora:
Vnitřní stínění využívá elektro-leštěnou nerezovou ocel s odnímatelnými vložkami pro rychlou redukci částic a údržbu.
Filmové materiály a substráty
Kompatibilní odpařovací materiály
Kovy: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrika a oxidy: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
Typy substrátů
Silikonové destičky (2 až 12 palců)
Optické sklo, tavený oxid křemičitý a křemenné substráty
Flexibilní polymerové fólie (polyimidové, PET přes moduly z role-do{1}}role)
Keramické substráty (Al2O3, AlN)
Aplikace
Optické povlaky:
Anti{0}}reflexní vrstvy (AR), úzkopásmové filtry- a zrcadla s vysokou-reflexí pro laserové a fotonické systémy.
Polovodičová zařízení:
Vytváření ohmických kontaktů, metalizace hradla a zpracování{0}}zvednutí pro mikroelektroniku.
Optoelektronika:
Transparentní vodivé oxidové (TCO) vrstvy a tenké filmy pro OLED displeje a fotovoltaické články.
Pokročilý výzkum a vývoj:
Průzkumné tenké-magnetické vrstvy, supravodivé filmy a více-vrstvé heterostruktury.
Přizpůsobení a konfigurace systému
Každý tenkovrstvý-systém je nakonfigurován tak, aby odpovídal konkrétním procesním recepturám a rozvržení zařízení. Dostupné technické úpravy zahrnují:
Výběr čerpacího zásobníku:
Turbo-molekulární vývěvy (TMP), kryopumpy nebo konfigurace-difuze oleje přizpůsobené základním požadavkům na vakuum a propustnost.
Načíst-integraci zámku:
Zámek ručního zatížení- nebo automatizované vícekomorové klastrové systémy pro zachování ultra-vysoké vakuové integrity a zvýšení propustnosti waferů.
In{0}}metrologie na místě:
Integrační porty pro spektroskopické elipsometry, optické monitory nebo analyzátory zbytkového plynu (RGA).
Ovládací software:
Proprietární rozhraní PLC/HMI s ukládáním receptur, protokolováním dat a komunikačními protokoly SECS/GEM pro integraci chytré továrny.
Výroba a kontrola kvality
Výroba plavidla:
Všechny vakuové komory procházejí zkouškou těsnosti hmotnostním spektrometrem s heliem s prahem odmítnutí < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
Integrita svaru:
Svařování TIG se provádí pod ochranou inertního plynu, následuje pasivace vnitřního povrchu a mechanické leštění pro snížení odplynění.
Tovární akceptační testování (FAT):
72-hodinový nepřetržitý suchý-test měřící křivky čerpání, přesnost zametání elektronické pistole, doby odezvy blokování a tepelnou stabilitu před uložením do bedny.
Shoda a standardy:
Vyrobeno podle systému řízení kvality s certifikací ISO 9001 se systémy navrženými tak, aby splňovaly směrnice CE a příslušné bezpečnostní a ergonomické směrnice SEMI (S2/S8).
FAQ
Jsme dobře-známí jako jeden z předních výrobců a dodavatelů zařízení pro odpařování elektronového paprsku v Číně. Pokud se chystáte koupit přizpůsobené zařízení pro odpařování elektronového paprsku vyrobené v Číně, vítejte na získání ceníku z naší továrny. Pro cenovou konzultaci nás kontaktujte.
