Přehled produktu

 

Industrial Cathodic Arc Evaporation System je produkční -platforma fyzikálního napařování (PVD) navržená pro nanášení tvrdých povlaků odolných proti opotřebení, korozi- a nízkým -třením-. Použitím nízkonapěťových a vysokoproudých elektrických oblouků se pevné katodové terče v místě katody okamžitě vypařují a ionizují a vytvářejí vysoce ionizované kovové plazma.


Tento systém, navržený a vyrobený v souladu s normami řízení kvality ISO 9001 a směrnicemi CE, je nakonfigurován pro vysoce{1}}propustné lakovací operace ve výrobě nástrojů, automobilových součástkách a průmyslovém hardwaru. Standardní konfigurace integrují více-katodové uspořádání s nezávislým řízením magnetického-pole, programovatelné stejnosměrné/pulzní napájecí zdroje a automatizované řízení vakua pro zachování konzistentní stechiometrie filmu a hustých mikrostruktur.

 
  • Arc Evaporation Thin Film System
    Průmyslový katodický obloukový odpařovací tenký filmový systém je navržen pro vysokorychlostní nanášení hustých, silně přilnavých kovových, slitinových a keramických směsných povlaků. Systém...
    Zobrazit více
  • Obloukové odpařování PVD zařízení
    Průmyslový PVD systém odpařování s katodovým obloukem využívá nízkonapěťové, vysokonapěťové-proudé elektrické oblouky k odpařování pevných katodových terčů ve vakuovém prostředí. Tento mechanismus...
    Zobrazit více
  • Vacuum Arc Thin Film System
    Průmyslový vakuový obloukový tenký filmový systém využívá katodové obloukové odpařování k nanášení hustých, vysoce přilnavých kovových, slitinových a keramických tenkých filmů. Oblouk s vysokým...
    Zobrazit více
  • Zařízení pro tenký film s katodickým obloukem
    Systém fyzikálního napařování (PVD) využívající lokalizované nízko{0}}napěťové, vysoko{1}}proudé elektrické oblouky k odpařování pevných katodových cílů na plně ionizované plazma. Vysoká míra...
    Zobrazit více
  • Zařízení na nanášení obloukovým odpařováním
    Platforma průmyslového fyzikálního napařování (PVD) navržená pro-rychlou syntézu hustých, otěruvzdorných-a funkčních tvrdých povlaků. Udržování vysoko-proudého a nízkonapěťového katodového...
    Zobrazit více
 
Technické specifikace

 

Parametr

Rozsah specifikace / Standardní konfigurace

Rozměry komory

Průměr: 800 mm - 1800 mm (Přizpůsobitelné vertikální/horizontální rozložení)

Materiál komory

Dvoustěnná -nerezová ocel SUS304 s vnitřními kanály-pro vodní chlazení

Maximální podtlak

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Achieved via roots blower and molecular/oil diffusion pump groups)

Konfigurace katody

4 až 12 obdélníkových/kruhových obloukových zdrojů s elektromagnetickým řízením

Napájení oblouku

300A - 500Nastavitelný konstantní proud, zvlnění<= 2%

Substrate Bias Power

0 až -1000 V nastavitelná, pulzní zkreslení 10 kHz - 100 kHz

Topný systém

Pole sálavého ohřívače, maximální rovnoměrnost teploty 600 stupňů +/- 5 stupňů

Rotace obrobku

Planetární nebo dvouosá rotace{0}} poháněná průchodkou pro magnetickou kapalinu

Řídicí systém

PLC + průmyslové PC, recept{1}}řízené automatizované sekvenční řízení

Požadavky na utility

Chladicí voda: 0,25-0,35 MPa, 20-25 stupňů; Napájení: 380V/480V, 3-fázové, 50/60 Hz

 

Proces odpařování oblouku

Depoziční cyklus probíhá pod přísnou procedurální kontrolou, aby byla zaručena integrita filmu a přilnavost rozhraní:

Evakuace a odplynění:

Vakuová komora je čerpána až na základní tlak. Substráty jsou zahřívány ve vakuu, aby se odstranily povrchové těkavé látky a zbytková vlhkost.

01

Plazmové leptání (čištění):

Bombardování kovovými ionty (s použitím titanových nebo chromových terčových zdrojů) čistí povrch substrátu na atomární úrovni, odstraňuje přirozené oxidy a aktivuje rozhraní.

02

Reaktivní depozice:

Reaktivní plyny (N2, CH4, O2) jsou vstřikovány do komory prostřednictvím regulátorů hmotnostního toku (MFC), aby reagovaly s tokem kovové plazmy (např. Ti, Cr, AlTi) a vytvořily složené filmy, jako je TiN, TiAlN nebo CrN.

03

Chlazení a větrání:

Chlazení po-depozici probíhá pod ochrannou atmosférou inertního plynu před odvzdušněním komory a vyzvednutím součásti.

04

 

Arc Evaporation Thin Film Equipment

 

Filmové materiály a substráty

Podporované katodové cíle
Titan (Ti) a titan hliník (TiAl):Základní materiály pro standardní TiN a povlaky TiAlN s vysokou -oxidací- (odolné oxidaci až do 900 stupňů).


Chrom (Cr):Používá se pro dekorativní povrchové úpravy a korozi{0}}odolné CrN/CrC vrstvy.


Zirkonium (Zr) a titanový křemík (TiSi):Používá se pro specializované dekorativní a nanokompozitní{0}}fólie odolné proti extrémnímu opotřebení.


Kompatibilní materiály substrátu
Vysokorychlostní-ocel (HSS):Spirálové vrtáky, stopkové frézy, odvalovací frézy a protahovače.


Slinuté karbidy (WC-Co):Vyměnitelné břitové destičky, výstružníky a tvářecí nástroje.


Strojírenské oceli a slitiny:Automobilové součásti ventilů, ozubená kola, sanitární zařízení z nerezové oceli a titanové lékařské implantáty.

 

Aplikace a dopad na výkon

Nástroje pro řezání kovů:

Nanášení povlaků TiAlN a AlCrN na karbidové břitové destičky a stopkové frézy, prodlužuje životnost nástroje o 200 % až 300 % a umožňuje suché vysokorychlostní obrábění.

Formovací a lisovací raznice:

Aplikace hustých povlaků s nízkým{0}}třením ke snížení opotřebení lepidla, zadření a lepení obrobku během hlubokého tažení, čímž se zkrátí prostoje až o 40 %.

Automobilové hnací ústrojí:

Ošetření pístních kroužků, čepů vstřikování paliva a zdvihátek pro minimalizaci koeficientu mezního tření na < 0,15 a zabránění opotřebení oděrem.

Průmyslový hardware a sanitární baterie:

Tvrdé dekorativní PVD vrstvy (TiN zlato, růžové zlato, černé zirkonium) prošly minimálně 500hodinovým testem neutrální solné mlhy (ASTM B117).

 

Přizpůsobení a konfigurace procesu

Rozvržení zařízení se škáluje podle objemu výroby, geometrie součásti a půdorysu továrny:

Geometrie komory:

Vertikální nosné konstrukce pro těžké nástroje; horizontální dávkové konfigurace pro vysokokapacitní{0}}nakládání příslušenství.

Integrace zdroje:

Hybridní konfigurace kombinující zdroje katodického oblouku s nevyváženými katodami magnetronového naprašování (RMS) pro nanášení hladkých vícevrstvých architektur bez{0}}kapek.

Filtrační systémy:

Volitelné magnetické makročásticové filtry (filtry s řízeným obloukem) nainstalované na katodových kanálech pro eliminaci makro-kapek pro optické nebo ultra{1}}hladké a přesné funkční povlaky.

Rozhraní automatizace:

Integrace-připravena pro robotická nakládací ramena a automatické navádění vozidel (AGV).

 

 

Výroba a kontrola kvality

Strukturální integrita:Tělesa komor procházejí zkouškou těsnosti hmotnostním spektrometrem s heliem na prahu citlivosti<= 1 x 10^-9 Pa*m3/s prior to assembly.


Elektrická bezpečnost a shoda:Postaveno přesně podle směrnic CE a IEC pro elektrickou bezpečnost, obsahuje úplné testování izolace a nouzové bezpečnostní blokování.


Funkční run-off (FAT):Each system undergoes a 72-hour continuous dry-run test and a full-process thermal deposition test in our factory. Coating thickness uniformity (+/- 5%) and adhesion (Scratch Tester critical load Lc >= 40 N / Rockwell indentation HF1-HF2) jsou před odesláním ověřeny na standardních testovacích kuponech.

Cathodic Arc Thin Film Equipment

 

Instalace a technická podpora
 

Balíček pro přípravu webu:

Komplexní výkresy rozvržení inženýrských sítí s podrobnými údaji o průtoku chladicí vody, odsávací ventilaci, nosnosti podlahy a specifikacích elektrických spádů byly poskytnuty 4 týdny po -smlouvě.

Uvedení do provozu na-stránce:

Tovární-certifikovaní procesní inženýři se starají o mechanické vyrovnání, detekci úniku vakua, elektrickou integraci a počáteční nastavení základní receptury v zařízení klienta.

Zpracovat přenos receptury:

Dodávka zahrnuje standardní základní receptury (TiN, TiAlN, CrN) a provozní školení pro interní týmy údržby a inženýrů.

Podpora vzdálené diagnostiky:

Systémy vybavené zabezpečenými branami průmyslových směrovačů pro vzdálené řešení problémů s parametry a diagnostiku logiky PLC.

 

 

FAQ

 

 

Otázka: Jak systém řídí tvorbu makročástic (kapek) související s odpařováním oblouku?

Odpověď: Zařízení využívá nastavitelné cívky řízení magnetického pole k rychlému pohybu bodu katodového oblouku po cílovém povrchu, čímž se zkracuje doba zdržení a vyhazování kapek. Pro aplikace vyžadující ultra-hladké povrchové úpravy volitelné moduly s filtrovaným obloukem magneticky odklánějí kovovou plazmu pryč od makročástic, než se dostane na substrát.

Otázka: Jaká je typická cílová míra využití pro standardní konfiguraci katody?

Odpověď: Standardní kruhové a obdélníkové katody dosahují míry využití cílového materiálu 40 % až 55 %, v závislosti na profilu magnetického pole a tloušťce cíle. Výměna terče je mechanicky zajištěna rychlými-upínacími mechanismy, aby se minimalizovaly prostoje při údržbě.

Otázka: Lze toto zařízení integrovat do stávající automatizované výrobní linky?

A: Ano. Řídicí architektura PLC podporuje komunikační protokoly SECS/GEM a standardní digitální I/O handshaking pro integraci s automatizovanými linkami předběžného čištění a robotickými nakládacími buňkami.

Otázka: Jaká je standardní doba realizace pro vlastní konfiguraci komory?

Odpověď: Standardní vertikální dávkové systémy vyžadují 16 až 22 týdnů od schválení výkresu do továrního přejímacího testu (FAT), v závislosti na přizpůsobených specifikacích čerpací skupiny a uspořádání napájení.

Jsme dobře-známí jako jeden z předních výrobců a dodavatelů zařízení pro obloukové napařování v Číně. Pokud se chystáte koupit přizpůsobené zařízení pro odpařování pomocí oblouku vyrobené v Číně, vítáme vás, abyste získali ceník z naší továrny. Pro cenovou konzultaci nás kontaktujte.

Odeslat dotaz
Kontaktujte náspokud máte nějaký dotaz

Můžete nás kontaktovat telefonicky, e-mailem nebo online formulářem níže. Náš specialista vás bude brzy kontaktovat.

Kontaktujte nyní!